原子層沉積

簡要描述：占地面積小的桌面系統（< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺）
具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥，用于集成惰性氣體吹掃。
4 英寸圓形卡盤可定制，適用于較小尺寸或其他形狀（11 毫米高）。
3 種有機金屬前體和 2 種（最多 3 種）反反應物。
整個加熱管線（從前體到腔室）。
高曝光（用于溝槽和多孔基板）和靜態處理模式
全鋁（半導體級）腔室 ? 范圍高達 310°C

產品型號：AT410
廠商性質：代理商
更新時間：2023-11-13
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占地面積小的桌面系統，兼容無塵室。
占地面積小的桌面系統（< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺）
具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥，用于集成惰性氣體吹掃。
4 英寸圓形卡盤可定制，適用于較小尺寸或其他形狀（11 毫米高）。
3 種有機金屬前體和 2 種（最多 3 種）反反應物。
整個加熱管線（從前體到腔室）。
高曝光（用于溝槽和多孔基板）和靜態處理模式
全鋁（半導體級）腔室 ? 范圍高達 310°C
7″ 觸摸屏 PLC 控制器（無需 PC）
包括終身軟件升級
1 年保修（包括零件）
AT610
全鋁（半導體級）腔室 ? 范圍高達 310°C
具有超快 MFC 的高溫半導體級快速脈沖 ALD 閥，用于集成惰性氣體吹掃。
6″ 圓形卡盤（7″ 方形）可定制為更小的尺寸或其他形狀（11 毫米高）。
流線型腔體設計，腔體體積小
3 種有機金屬前體和 2 種（最多 3 種）反反應物。

前體可以加熱到 150°C。

整個加熱管線（從前體到腔室）。
簡單的系統維護和市場上的公用事業和前體使用
高曝光（用于溝槽和多孔基板）和靜態處理模式
7″ 觸摸屏 PLC 控制器（無需 PC）

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