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      韓國Mask Aligner光刻機

      簡要描述:光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。

      • 產品型號:M-150和P-150
      • 廠商性質:代理商
      • 更新時間:2023-11-13
      • 訪  問  量:1220

      詳細介紹

      M-150

      光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。M系列是用于光刻的掩模對準器。M-150專為6英寸晶圓設計,具有硬接觸、軟接觸、真空接觸三種接觸方式。曝光器有一個350W的紫外線光源。365nm處的光功率為25mW/cm 。可用于商業半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領域。


      技術參數

      類型

      PLC手動控制系統

      波長

      350 ~ 450 nm

      掩膜版尺寸

      最大7英寸

      紫外光強度

      15 ~ 25/ ?

      基片尺寸

      6英寸

      紫外線光束均勻度

      3 ~ 5 %

      分辨率

      1 ?

      接觸模式

      真空/硬/軟/接近

      對準精度

      1 ?

      顯微鏡

      CCD變焦顯微鏡

      紫外燈和電源

      350W

      選配項

      Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA


      P-150

      光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。P-150專為6英寸晶圓設計,具有硬接觸、軟接觸、真空接觸三種接觸方式。曝光器有一個350W的紫外線源。365nm處的光功率為25mW/cm 。可用于商業半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領域。


      技術參數

      類型

      觸摸屏PC手動控制系統

      波長

      350 ~ 450 nm

      掩膜版尺寸

      最大7x7英寸

      紫外光強度

      15 ~ 25/ ?

      基片尺寸

      6英寸

      紫外線光束均勻度

      3 ~ 5 %

      分辨率

      1 ?

      接觸模式

      真空/硬/軟/接近

      對準精度

      1 ?

      顯微鏡

      CCD變焦顯微鏡

      紫外燈和電源

      350W

      選配項

      IR BSA, CCD BSA


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