PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統的*功能。 腔室材料是硬質陽極氧化鋁， 有幾種不同的電極設計，包括用于反應離子刻蝕（RIE）和平面處理的水冷平板電極，用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極，用于小化離子損傷的下游電極，和用于普通的圓柱形籠式電極。

反應離子刻蝕機PlasmaStar 100儀器介紹 PlasmaSTAR®系列等離子處理系統適合處理所有的材料，擁有多種腔室和電極配置，可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小，用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外，觸摸屏計算機控制，多級程序控制和組件控制，操作簡單。PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統的*功能。

Pico 等離子設備可以組合成不同的派生型，例如組合成模塊系統。下面是能夠與 Pico 等離子系統組合使用的最常見選裝件的概覽。Pico 系統主要應用于以下領域： 分析 (REM, TEM)，考古，汽車，研究和開發部門，半導體技術，小批量生產，塑料技術，醫療技術，微系統技術，傳感技術，滅菌，紡織技術

Femto 等離子系統可以組合成不同的派生型，例如組合成模塊系統。下面是能夠與 Femto 等離子系統組合使用的最常見選裝件的概覽。Femto 等離子系統主要應用于以下領域： 分析、考古、汽車、研究和開發部門、半導體技術、小批量生產、塑料技術、醫療技術、微系統技術、傳感技術、滅菌、紡織技術

0.5 升的 Low Cost 等離子體實驗室設備 ATTO 配有手動型 和 Basic PC 控制系統，主要用于以下領域： 小批量生產、分析 (REM, TEM)、醫療技術、滅菌、研究和開發部門、考古、紡織技術、塑料技術

2.6 升的 Low Cost 等離子體實驗室設備 ZEPTO 配有手動型 和 Basic PC 控制系統，主要用于以下領域: 小批量生產, 分析 (REM, TEM), 醫療技術, 滅菌, 研究和開發部門, 考古, 紡織技術, 塑料技術