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      熱門關鍵詞：勻膠機，光刻機，顯影機，等離子清洗機，紫外臭氧清洗機，紫外固化箱，壓片機，等離子去膠機，刻蝕機，加熱板
      
        
      
        	
      
              
      
              
      
              
      
            
      
        
      
        
      
    
      

      







      
	
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      • WS-1000MLaurell-WS半導體濕法刻蝕系列
        

        

        WS-1000MLaurell-WS半導體濕法刻蝕系列
        

        自1985年起，Laurell公司向遍布所有的生物化工和半導體材料科研領域的實驗室提供表面涂敷工藝的解決方案，目前，*有超過15000套系統正在安全運行。WS-1000M Laurell-WS半導體濕法刻蝕系列，全白色聚丙烯構造，可內置任何Laurell公司的旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統，可選擇WS-1000濕法刻蝕設備，WS-1000系列旋轉處理濕法設備可以
        

        

        

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        產品價格：面議
        

        廠商性質：代理商
        

        更新日期：2023-11-12
        

        

        

        

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      • WS-1000Laurell 濕法刻蝕設備
        

        

        WS-1000Laurell 濕法刻蝕設備
        

        自1985年起，Laurell 濕法刻蝕設備是生物化工和半導體材料科研領域的實驗室提供表面涂敷工藝的解決方案，目前，*有超過15000套系統正在安全運行。
        

        

        

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        產品價格：面議
        

        廠商性質：代理商
        

        更新日期：2023-11-12
        

        

        

        

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